Institut des
NanoSciences de Paris
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Equipements de lithographie

Les équipements de l’INSP autorisent un large éventail de résolutions disponibles.

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  • 2 Spin coater (Polos Spin 150 i)
    Ces deux tournettes permettent (en association avec deux plaques chauffantes Stuart) l’enduction contrôlée des échantillons avec de la résine photosensible ou encore du PMMA.
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  • Dispositif de photolithographie à écriture directe par laser UV (DWL 66FS Heidelberg)
    A l’aide d’un laser UV (405 nm) et d’une table interférométrique, cet appareil permet de réaliser par photolithogravure des motifs à la surface d’échantillons préalablement recouverts de résine. Deux têtes d’écriture sont utilisables : une première permettant d’atteindre une résolution de 5 µm et une seconde pour descendre jusqu’au micron. Possibilité d’auto-aligner plusieurs couches successives en face avant et/ou en face arrière de l’échantillon. Cette machine permet également de fabriquer sur mesure des masques de photolithographie.
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  • 2 Aligneurs de masques (MJB4 et MJB3 - Karl Süss)
    Possédant respectivement une résolution de un micron et de quelques microns, le MJB4 (à gauche) et le MJB3 (à droite) sont utiles pour réaliser rapidement des insolations UV. Au contraire de la DWL, le fonctionnement de ces appareils imposent l’utilisation d’un masque de photolithographie adapté (masque 3 ou 5 pouces).Le MJB4 permet en outre un alignement des motifs à insoler avec des motifs préexistants en face arrière grâce à un système d’observation infrarouge.
© INSP - L. Becerra {JPEG}
  • Système de lithographie électronique (Raith Elphy Quantum)
    Ce dispositif permet de contrôler le faisceau électronique du MEB pour venir insoler localement une couche de PMMA ou autres polymères électro-sensibles, afin de structurer avec précision la surface d’échantillons. La résolution ultime théorique est de 20 nm.